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 TiN涂层

    TiC（碳化钛），TiN（氮化钛）等坚硬物质的涂层方法大致有两种，化学气相沉积法（CVD法）和物理气相沉积法（PVD法）。

化学气相沉积法的温度为900-1100℃，已超过了高速钢的回火温度，所以不能用于高速钢的表面涂层。

    物理气相沉积法温度较低，在500℃以下，适合对高速钢丝锥，铣刀的涂层，物理气相沉积法中最具代表性，最常用的是HCD离子电镀工艺。

HCD离子电镀工艺的基本过程是：把涂层材料钛（Ti）放于高真空槽内的坩中，用电子射线让它熔解并与氮气反应，使之在已预热且受负电压作用下的刀具表面上生成细密。牢固的氮化钛（TiN）涂层，TiN涂层呈金黄色，与刀具母体的密著性很好。

系数降低，减小加工受力

 提高表面硬度，大大延长模具寿命

 防止产品拉毛、拉伤，提升产品质量

 省去卸模、抛光再装模的烦恼，提高效率

模具极其零部件类

针对不同的模具(粉末冶金模,冲压模具,成型模,拉伸模,锻压模及注塑模等)和零件所采用的涂层工艺,可显著提高表面的硬度,耐磨性,耐蚀性,耐热性及其润滑性等;并能方便脱膜,大力地提升模具和零件的品质(如表面粗糙度,精度等)和使用寿命,使其有效的发挥产品的潜能.

金属表面处理PVD镀 膜特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。 

PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD镀 膜通常称谓：金属表面处理,镀膜,镀钛,真空镀膜，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工,真空镀膜加工，表面 处理等.

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